Metepec, Méx. a 08 de julio de 2024.- Derivado del artículo “A chemical model to predict the formation of a semiconductor solid solution: New insights in the use of bulk and surface mechanochemical reactions”, publicado en junio del 2021 en la revista Applied Surface Science (https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.150455), cuyos autores son en su mayoría miembros de Tecnológico Nacional de México (TecNM), el International Centre for Diffraction Data (ICDD®), publicará la información cristalográfica correspondiente al material sintetizado, siendo esta la primera aportación del TecNM a la prestigiosa base de datos, que estará disponible en la edición PDF-5+ 2025. El ICDD® es reconocido por publicar las fichas Powder Difraction File (PDF) que son fuente de información fundamental para la comunidad científica que realiza análisis por difracción de rayos-x.
El trabajo de investigación fue dirigido por el Dr. Hugo Rojas Chávez (Instituto Tecnológico de Tláhuac II) en colaboración con el Dr. Guillermo Carbajal Franco (Instituto Tecnológico de Toluca), el Dr. Manuel A. Valdés Madrigal (Instituto Tecnológico Superior de Ciudad Hidalgo), los Dres. Heriberto Cruz Martínez y Fernando Montejo Álvaro (Instituto Tecnológico del Valle de Etla), así como otros colaboradores de instituciones nacionales.
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